產品介紹

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Expert™ FAB/PS/LAB｜全自動化氣相分解裝置（VPD System）：圖片 1
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Expert™ FAB/PS/LAB｜全自動化氣相分解裝置（VPD System）

產品概述

Expert™ FAB / PS / LAB 是一款採用 全自動化氣相分解法（Vapor Phase Decomposition, VPD）
的晶圓表面金屬污染分析設備。

系統透過雙氧水（H₂O₂）與氫氟酸（HF）混合液於晶圓表面掃描，
將金屬不純物收集後導入 ICP-MS（感應耦合電漿質譜儀）進行分析，
最終輸出各金屬元素濃度（atoms/cm²）。

支援 6” / 8” / 12” / 18” 晶圓，
偵測極限可達 E7 atoms/cm² 等級，
具備高靈敏度、高再現性與 24/7 連續運行能力，
為先進製程與實驗室金屬污染控管的核心解決方案。

核心功能與技術亮點

全自動化 VPD 分析流程

  • 自動取樣、自動掃描、自動導入 ICP-MS
  • 降低人為操作誤差
  • 提升一致性與再現性
  • 避免人員接觸危險化學品

超高敏感度金屬污染偵測

  • 偵測極限達 E7 atoms/cm²
  • 適用前段製程與高潔淨環境污染控管

多尺寸晶圓支援

  • 6” / 8” / 12” / 18”
  • 支援 Edge Scan（邊緣分析選配）

多模式掃描技術

  • Full Scan
  • Radial
  • S-Sector
  • R-Sector
  • Edge Scan（Option）

高潔淨度環境

  • ULPA Filter（Class 3）
  • 極低粒子干擾

高稼動率 × 高可靠度

  • 24 小時 × 365 天連續運行
  • 可拆卸掃描模組，便於維護
  • 彈性化學供液系統（HF / H₂O₂）

系統模組（System Modules）

  • VPD Chamber（含 HF 產生模組）
  • X-Y-Z Scan Stage + Dual Nozzle 模組
  • 乾燥裝置（Drying Unit）
  • Aligner / Robot / Loadport 整合
  • 晶圓重量量測模組（Weight Measuring Unit）

技術規格

Nozzle（Dual）Accuracy 0.36°
Repeatability ±0.1 mm
Scan Modes Full / Radial / S-Sector / R-Sector (Edge optional)
Environment ULPA Filter (Class 3)
Throughput Max. 7 wafers / hr
Modules VPD Chamber (HF generation)
X-Y-Z Scan Stage + Nozzle
Drying Unit
Aligner / Robot / Loadport
Weight Measurement Module
Others 24/7 Continuous Operation
Flexible Chemical Supply
Multi-size wafer support
Detachable scanning module

整體優勢（Why Expert™）

  • 全自動流程 → 高再現性與高準確度
  • E7 atoms/cm² 極限 → 適合先進製程污染監控
  • 多掃描模式 → 更完整污染分析
  • Class 3 潔淨環境 → 高靈敏度量測
  • ICP-MS 整合 → 分析流程一體化
  • 高穩定長時間運行 → 維護成本低
  • 支援多尺寸與客製化應用
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IMPERDIET HIMENAEOS MATTIS

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